氯化氢

HCl气体的杂质越低越好

    电子级氯化氢是指纯度高于99.999%的高纯度氯化氢气体。除了对纯度要求较高以外，对氯化氢气体的品质要求也非常严格。

    随着微电子工业向着大尺寸、高集成化、高均匀性和高完整性方向的飞速发展，对广泛用于单晶硅气相抛光和外延机座腐蚀的电子级氯化氢也有了新的要求。除了应具有99.999%以上的纯度，还要求氯化氢的THC、H2O和金属离子等有机杂质的含量越低越好。
    电子级氯化氢主要用于外延生长前硅和砷化镓高温气相刻蚀，清除钠离子。另外高纯氯化氢也用于金属表面化学处理，激光用混合气、胶片生产及碳纤维表面处理。过去我国大多从美、日等国进口电子级氯化氢，但近年来，我国电子工业所需的化学气体的研制，在技术上已有不少突破和发展。

    淄博言赫特气有限公司于2003年10月通过北京市科委科技成果鉴定，获得国家授权专利，具有自主知识产权。经国内外多家半导体材料生产企业在单晶硅片气相抛光、外延基座腐蚀和硬质合金镀膜工艺中使用证明，其主要性能技术指标与国外同类产品相当，填补了我国电子级氯化氢产品生产的空白。